Effect of Native Oxide on the Electric Field-induced Characteristics of Device-quality Silicon at Room Temperature
None
Bewaard in:
| Hoofdauteurs: | , , , |
|---|---|
| Formaat: | Elektronisch Hoofdstuk |
| Taal: | Engels |
| Gepubliceerd in: |
IntechOpen
2011
|
| Onderwerpen: | |
| Online toegang: | https://www.intechopen.com/chapters/17723 |
| Tags: |
Voeg label toe
Geen labels, Wees de eerste die dit record labelt!
|
Wees de eerste die reageert!