Effect of Native Oxide on the Electric Field-induced Characteristics of Device-quality Silicon at Room Temperature
None
Zapisane w:
| Główni autorzy: | , , , |
|---|---|
| Format: | Elektroniczne Rozdział |
| Język: | angielski |
| Wydane: |
IntechOpen
2011
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://www.intechopen.com/chapters/17723 |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|