A study of superconducting behavior in ruthenium thin films
Ruthenium (Ru) is a promising candidate for next-generation electronic interconnects due to its low resistivity, small mean free path, and superior electromigration reliability at nanometer scales. In addition, Ru exhibits superconductivity below 1 K, with resistance to oxidation, low diffusivity, a...
שמור ב:
| Main Authors: | , , , , |
|---|---|
| פורמט: | Article |
| שפה: | אנגלית |
| יצא לאור: |
AIP Publishing LLC
2025-06-01
|
| סדרה: | APL Materials |
| גישה מקוונת: | http://dx.doi.org/10.1063/5.0271150 |
| תגים: |
הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!
|