Self-Standing Graphene Sheets Prepared with Chemical Vapor Deposition and Chemical Etching
None
Đã lưu trong:
| Những tác giả chính: | Odahara, Genki, Ishikawa, Tsuyoshi, Fukase, Kazuya, Otani, Shigeki, Oshima, Chuhei, Suzuki, Masahiko, Yasue, Tsuneo, Koshikawa, Takanori |
|---|---|
| Định dạng: | Điện tử Chương của sách |
| Ngôn ngữ: | Tiếng Anh |
| Được phát hành: |
IntechOpen
2011
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://www.intechopen.com/chapters/19774 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
Những quyển sách tương tự
-
Effect of photo chemical etching and electro chemical etching on the topography of porous silicon wafers surfaces
Bằng: Amjad Hussein Jassem
Được phát hành: (2019-08-01) -
Chemical Vapor Deposition of Graphene
Bằng: Miao, Congqin, et al.
Được phát hành: (2011) -
Wet - Chemically Etched Silicon Nanowire Architectures: Formation and Properties
Bằng: Sivakov, Vladimir, et al.
Được phát hành: (2011) -
Tapered Optical Fiber Couplers Fabricated by Droplet-Based Chemical Etching
Bằng: Gyeongho Son, et al.
Được phát hành: (2017-01-01) -
Steady-state flow-sheeting of chemical plants
Được phát hành: (1980)


