Monte Carlo Simulation for Ion Implantation Profiles, Amorphous Layer Thickness Formed by the Ion Implantation, and Database Based on Pearson Function

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Autore principale: Suzuki, Kunihiro
Natura: Elettronico Capitolo di libro
Lingua:inglese
Pubblicazione: IntechOpen 2011
Soggetti:
Accesso online:https://www.intechopen.com/chapters/14007
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