Osiowo-Symetryczne Zagadnienie Kontaktowe dla Poprzecznie Izotropowej Warstwy z Uwzględnieniem Naprężeń Stycznych w Obszarze Kontaktu - J.M. Kizyma; W.B. Rudnicki (Engineering Transactions, 1973)
W pracach [1, 2 i 3] zostały rozwiązane osiowo-symetryczne zagadnienia kontaktowe w przypadku idealnej szczepności stempla z podłożem. Obliczenia numeryczne i analiza rozwiązania tych prac wykazały, że styczne naprężenia kontaktowe są w tym przypadku proporcjonalne do napreżeń normalnych oraz do odległości od środka powierzchni kontaktu.