Osiowo-Symetryczne Zagadnienie Kontaktowe dla Poprzecznie Izotropowej Warstwy z Uwzględnieniem Naprężeń Stycznych w Obszarze Kontaktu
W pracach [1, 2 i 3] zostały rozwiązane osiowo-symetryczne zagadnienia kontaktowe w przypadku idealnej szczepności stempla z podłożem. Obliczenia numeryczne i analiza rozwiązania tych prac wykazały, że styczne naprężenia kontaktowe są w tym przypadku proporcjonalne do napreżeń normalnych oraz do od...
Saved in:
| Main Authors: | , |
|---|---|
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Institute of Fundamental Technological Research
1973-03-01
|
| Series: | Engineering Transactions |
| Online Access: | https://et.ippt.pan.pl/index.php/et/article/view/2437 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|